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電子級三甲基氯硅烷工藝裝置主要由溶解釜、加料釜、反應釜、接收罐、堿液釜和渣漿釜等組成。 其主要儀表及管閥件均采用高性能產品，裝置非標采用耐腐蝕材質。PLC 系統采集確保操作人員安全。 裝置的整體水平要求自動化程度高，數據精確度及重復性好，安全可靠 并能長周期穩定運行

超臨界高溫高壓反應釜，主要用來評價、研究工藝過程，探索最佳工藝參數，經取樣分析、評價、數據處理，獲取產品分布、產品性質等數據，為中試及工業化工藝設計提供設計基礎數據。 裝置非標采用耐腐蝕材質，裝置采用 PLC 控制系統，配置多級關鍵的保護系統，確保裝置的設備和操作人員的安全。

連續式反應器，主要用來評價、研究工藝過程，探索最佳工藝參數，經取樣分析、評價、數據處理，獲取產品分布、 產品性質等數據，為中試及工業化工藝設計提供設計基礎數據。裝置的整體水平要求自動化程度高，數據精確度及重復性好，安全可靠并能長周期穩定運行。

光催化膜分離裝置是一套高效的反應釜評測系統。系統包括氣體控制模塊,溫度控制模塊、反應釜模塊、液體模塊等。 系統為用戶的原料相態提供選擇，1路氣體或者是氣體和液體的組合。液體通過反應釜上加料罐或者液體泵輸送到反應器前的催化劑罐中。對于液態的原料，它經由專用工具及專人，裝入反應釜裝置內。

濕式氧化實驗裝置，具有耐壓、耐腐蝕、耐一定溫度的特性。攪拌方式為環形永磁驅動靜密封，攪拌力強，無泄露。適用于石油，化工，制藥，染料，軍工，礦冶，食品等行業的科研院所，和大專院校的科研領域，尤其適用于大專院校對學生進行示范性試驗。