H 型光電反應釜

描述：H 型光電反應釜此裝置能夠實現控溫耐高壓操作，耐壓 10MPa，采用 316L 不銹鋼釜體，內部與溶液可能接觸的部位噴涂 PFA，保證了耐高溫<200℃；溫度控制采用的夾層水浴或油浴控制，熱傳導速度快。

更新時間：2024-05-23

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詳情介紹

YZEPCR-H 型 H 型光電反應釜又叫： H 型光電反應器、雙通道光電反應器、H 型可換膜光電反應器 此裝置能夠實現控溫耐高壓操作，耐壓 10MPa，采用 316L 不銹鋼釜體，內部與溶液可能接觸的部位噴涂 PFA，保證了耐高溫<200℃；溫度控制采用的夾層水浴或油浴控制，熱傳導速度快。反應釜中間可以添加離子膜，用于雙室反應光電反應，也可以當做兩個獨立的光電反應釜使用，實現了一機多用。標配電極為三支，全部采用 PEEK 材料，電極既可以耐溫，又可以耐壓。

YZEPCR-H 型 H 型光電反應釜參數表：

項目	參數
光電反應釜	316L 耐腐蝕不銹鋼，內部全部噴涂 PTFE H 型雙室反應體系，單室可單獨使用，單室容積 100ml
耐壓	<10MPa，含進出氣體閥門
溫度	<100℃（水浴控溫），<200℃(油浴控溫)，控溫精度 0.1℃釜體內部標配控溫夾層，內部測溫采用 Pt100，含溫度顯示表；通水孔 12mm
電極	PEEK 三電極（標配），選配進口耐高溫耐壓參比電極
通光孔	Φ40mm，藍寶石（全光譜高透），雙通光孔
要求離子膜規(guī)格	直徑 50mm
閥門	巖征儀器高溫高壓針閥
密封	耐高溫密封圈
光源（選配）	氙燈光源、LED 光源、汞燈光源
控溫循環(huán)機（選配）	循環(huán)控制系統